
Portante al quarzo
Materiale: vetro al quarzo fuso al 99,99% (SiO₂)
Dimensioni: personalizzare
Tecnica: taglio, lucidatura
Quantità minima richiesta: 20 pezzi
Descrizione
Proprietà
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Proprietà fisiche |
Valori |
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Purezza |
>99.99% |
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Densità |
2,2 g/cm3 |
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Trasparenza |
>90% |
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Durezza di Mohs |
5.5--6.5 |
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Punto di deformazione |
1280 gradi |
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Punto di ammorbidimento |
1780 gradi |
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Punto di ricottura |
1250 gradi |
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Calore specifico (20 - 350 gradi) |
670J/kg. grado |
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Conducibilità termica (20 gradi) |
1,4 W/m. grado |
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Conducibilità termica (w/mk, 1000 gradi) |
1.0-1.2 |
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Indice di rifrazione |
1.4585 |
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Coefficiente di dilatazione termica |
5.5*10 -7cm/cm. grado |
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Temperatura di lavoro - elevata |
1750--2050 gradi |
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Temperatura di servizio a breve termine per - |
1300 gradi |
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Temperatura di servizio a lungo termine - |
1100 gradi |
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Proprietà chimiche |
Valori |
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Resistente agli acidi |
Acido forte (tranne HF), alcali forti, soluzione organica |
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Resistente alla corrosione alle alte temperature |
Eccellente |
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Contenuto di impurità metalliche |
<5 ppm |
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Proprietà elettriche |
Valori |
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Resistività |
7*107Ω.cm |
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Forza di isolamento |
250~400Kv/cm |
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Costante dielettrica |
3.7~3.9 |
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Coefficiente di assorbimento dielettrico |
<4*10-4 |
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Coefficiente di perdita dielettrica |
<1*10-4 |
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Proprietà meccaniche |
Valori |
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Resistenza alla compressione |
1100MPa |
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Resistenza alla flessione |
67MPa |
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Resistenza alla trazione |
48MPa |
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Rapporto di Poisson |
0.14~0.17 |
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Modulo di Young |
72000MPa |
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Modulo di taglio |
31000MPa |
Applicazioni
Usi di laboratorio
- Supporti per forni ad alta-temperatura
- componenti del sistema CVD/PVD
- Supporti per campioni spettroscopici
- Attrezzature per camere a vuoto
Applicazioni industriali
- Elaborazione di wafer semiconduttori
- Supporti per la produzione del vetro
- Manipolazione di sostanze chimiche-di elevata purezza
- Produzione fotovoltaica
Applicazioni di ricerca
- Esperimenti di scienza dei materiali
- Studi sulla catalisi
- Supporti per la crescita dei cristalli
-Ambienti ultra-puliti
Vantaggi
Vantaggi in termini di prestazioni
- 10× durata di vita più lunga rispetto alle alternative in ceramica
- Nessun degassamento nei sistemi a vuoto
- Zero contaminazione del campione
- Prestazioni costanti a temperature estreme
Vantaggi operativi
- Facile da pulire e sterilizzare
- Funzionalità di monitoraggio visivo del processo
- Personalizzabile per applicazioni uniche
- Funzionamento senza manutenzione-esente
Domande frequenti
D1: Possono resistere a rapidi cicli termici?
R: Sì - progettato per:
- Cicli ripetuti di 1000 gradi
- Applicazioni di raffreddamento quench
- Test di shock termico
Q2: Possono essere utilizzati con l'acido HF?
R: No, il quarzo - reagisce con l'acido fluoridrico. Utilizzare alternative al PTFE o alla grafite.
Q3: Come si confrontano i supporti in quarzo con l'allumina?
R: Quartz offre:
- Migliore resistenza agli shock termici
- Purezza chimica superiore
- Trasparenza ottica
- Conduttività termica inferiore
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